CVD-PECVD Sistemleri
Kimyasal biriktirme(Chemical Vapor Deposition) işlemlerinde kullanılmaktadır. Özellikle ince film büyütme Grafen(Graphen) Li-Ion batarya çalışmalarında AR-GE laboratuvarları tarafından tercih edilir.
Bilgisayar kontrollü MFC gaz dağıtım sistemi ile çok hassas şekilde akış denetimi yapabilmektedir.
Windows tabanlı tüp fırın ve Rotary veya Turbo moleküler pompa sistemi ile istenilen vakum seviyesi kolayca ulaşılabilmektedir.
Kullanıcı isteğine bağlı olarak çok tipte CVD (kimyasal buharlaştırama) sistemi üretilebilmektedir.
Optosense markalı plasma destekli kimyasal buhar biriktirme sistemi ( CVD-PECVD Sistemleri ) 500W kapasiteli Plasma ünitesi ile CVD uygulamalarına ek olarak ince çalışmaları başta olmak üzere bir çok çalışmada kullanılmaktadır.
Plasma ünitesinin sağladığı avantajlar ile yüzey aktivasyonu ve temizliği ışıl işlem öncesi veya sonrası süresince kolaylıkla yapılabilmektedir.
