CVD-PECVD Sistemleri
Kimyasal biriktirme (Chemical Vapor Deposition) işlemlerinde kullanılmaktadır. Özellikle ince film büyütme Grafen(Graphen) Li-Ion batarya çalışmalarında AR-GE laboratuvarları tarafından tercih edilmektedir.
Bilgisayar kontrollü MFC gaz dağıtım sistemi ile çok hassas şekilde akış denetimi yapabilmektedir.
Windows tabanlı tüp fırın ve Rotary veya Turbo moleküler pompa sistemi ile istenilen vakum seviyesi kolayca ulaşılabilmektedir.
Kullanıcı isteğine bağlı olarak çok tipte CVD (kimyasal buharlaştırama) sistemi üretilebilmektedir.
Optosense markalı plasma destekli kimyasal buhar biriktirme sistemi ( CVD-PECVD Sistemleri) 500W kapasiteli Plasma ünitesi ile CVD uygulamalarına ek olarak ince çalışmalarda kullanılmaktadır. Bu uygulamalar başta olmak üzere birçok çalışmada kullanılmaktadır.
Chemical Vapor Furnace (Kimyasal buhar fırını),
CVD süreci gaz fazındaki kimyasal bileşenlerin yüzeyde kimyasal reaksiyonlara girmesi yoluyla ince bir film oluşturulmaktadır. Bir substrat (kaplanacak yüzey) belirli bir sıcaklıkta bir reaktif gaz karışımına maruz bırakılır. Gazlar reaksiyona girer ve yüzeyde ince bir film biriktirir.
– Türleri : CVD farklı türlerde gerçekleştirilebilir. Örneğin “Hidrojenat Kimyasal Buhar Biriktirme” hidrojen gazını içeren bir Chemical Vapor Furnace CVD türüdür.
– Uygulamalar : CVD’nin geniş bir uygulama yelpazesi vardır. Yarıiletken endüstrisinde, silikon tabakalar oluşturmak için kullanılmaktadır. Optoelektronik alanında, LED’ler ve güneş panellerinin üretiminde kullanılabilir. Ayrıca, aşındırma direnci veya ısıya dayanıklılığı eklemek için ve kaplamalar oluşturmak için kullanılmaktadır.
– İncelenen Parametreler : CVD işlemi optimize edilirken dikkate alınması gereken bazı parametreler vardır. Bunlar, reaktif gazların oranı, basınç, sıcaklık, substrat malzemesi ve geometrisi gibi faktörleri içerebilmektedir.
– CVD Türleri : CVD, düşük basınç CVD (LPCVD), kimyasal buhar infiltrasyonu (CBI), plazma destekli CVD (PECVD) gibi farklı varyasyonlara sahiptir.
– Avantajlar ve Dezavantajlar: Chemical Vapor Furnace (Kimyasal buhar fırını) CVD yönteminin avantajları, atom tabakasının kontrolünün yüksek olması, ince film kalınlığının homojen olması ve kompleks yapıların kaplanabilmesidir. Ancak, yüksek sıcaklıklar ve özel ekipman gerektiren bir süreçtir.
Kimyasal buhar fırını, geniş bir endüstri yelpazesinde kullanılan önemli bir kaplama yöntemidir. Herhangi başka bir sorunuz olursa lütfen sormaktan çekinmeyin!
Plasma ünitesinin sağladığı avantajlar ile yüzey aktivasyonu ve temizliği ışıl işlem öncesi veya sonrası süresince kolaylıkla yapılabilmektedir.
