Litografi sistemleri temelde maske hizalayıcı (mask aligner) ve maskesiz litografi (maskless lithography) olmak üzere iki ana metot ile çalışan sistemlerdir.
Maske hizalayıcı (mask aligner) sistemleri daha az kritik uygulamalarda tercih edilen, gölge baskı tekniğine dayanan sistemlerdir. Maske hizalayıcı litografi sistemleri kullanılmak istenen geometrik desenin daha önce oluşturulmuş bir fotomaskeden bir wafer ya da alttaş üzerindeki ışığa duyarlı bir alana aktarılması prensibi ile çalışır.
Maske hizalayıcı (mask aligner) lithography sistemleri başta MEMS/NEMS, LED, OLED ,mikrooptik, fotovoltaik çalışmaların temelini oluşturan sistemlerdir.
Maskesiz litografi (maskless lithography) sistemleri ise maske hizalama sistemlerinin aksine bir fotomaskeye ihtiyaç duymaz. Wafer ya da alttaş üzerine paternlerin (litografide kullanılacak desenlerin) yazılmasını, radyasyonun dar bir ışın demetine uygulanması ve bu ışın demetinin görüntüyü direkt olarak numuneye yazması prensibi ile çalışan oldukça hassas uygulamalara uygun sistemlerdir.
Maskless Lithography sistemleri, laboratuvar ve AR-GE çalışmalarında fotomaske gereksinimini ortadan kaldırır. Farklı desenlerin uygulanmasında sıklıkla tercih edilen, sarf maliyeti olmadan çalışan, gelişmiş ve avantajlı fiyatlara sahip sistemlerdir.
