Anric Technology , özellikle Atomik Katman Biriktirme – ALD üzerine odaklanarak ince film biriktirme alanlarında teknoloji ve yeniliğe odaklanarak, zorlu ince film biriktirme uygulamalarına çözümler sunar. ALD’nin sizin için doğru olup olmadığını ve Anric Technology sistemlerinin optimum hız, esneklik ve fiyat kombinasyonunu nasıl sağladığını öğrenin.
Atomik Katman Biriktirme veya ALD, aşağıdaki uygulamalar için paha biçilmez bir araçtır.
- Nano ölçekte problem çözme ve cihazlar yaratma
- ALD sürecinin doğası gereği, önemli ve tanımlayıcı
- Elde edilen filmlerin özellikleri üretilir.
ENERJİ
Silikon bazlı güneş pilleri – pasivasyon katmanı
NANO YAPI CİHAZLARI
Tek ve çok duvarlı karbon nanotüplerin kaplama / yüzey kimyası değişimi
BİYOTEKNOLOJİ
Yüzey modifikasyonu – 3B nesneler üzerinde biyouyumlu yüzey oluşturma
MİKROELEKTRONİK
Transistör yapıları – gate dielektrikleri, izolasyon çukurları, gate bağlantıları
ELYAF/TEKSTİL
Tekstil kaplama – Güç, renk ve diğer özellikler için eğrilmiş kumaşa uygulanan katmanlar
PLASTİK/POLİMERLER
Polimer yüzeylerde iletken tabakalar
KATALİZ
Yüksek yüzey alanlı katalizör yapıları – Gözenekli nanoyapıların aktif madde ile kaplanması.
NUMUNE HAZIRLAMA
SEM numuneleri için iletken katmanlar – Düşük sıcaklıklı iletkenlerin büyümesi.
