Anric AT610 Atomic Layer Deposition
Anric AT610 Atomic Layer Deposition (ALD) sistemi, kompakt tasarımı ve yüksek performansı ile dikkat çeker. 310°C’ye kadar ısınabilen alüminyum odası, düşük enerji tüketimi ve hızlı pulslama özellikleri ile yüksek maruziyet ve derin işleme sağlar. Kolay bakım ve güvenli çalışma özellikleri ile ALD uygulamalarında mükemmel sonuçlar sunar.
Anric AT610 Atomic Layer Deposition (ALD) sistemi, düşük ayak izi ile yüksek performans sunan bir çözümdür. Bu masaüstü cihaz, temizlik odası uyumluluğu ile her türlü araştırma ve üretim ortamında rahatlıkla kullanılabilmektedir. Ayrıca ALD teknolojisinin avantajlarını bunmaktadır. Böylece ince film kaplamaları ve yüzey işlemleri konusunda güvenilir sonuçlar sağlar.
Kompakt Tasarım ve Yüksek Sıcaklık Performansı
Anric AT610 ALD, kompakt tasarımı sayesinde sınırlı alanlarda bile etkili bir şekilde çalışabilmektedir. Aynı zamanda tamamen alüminyumdan üretilen odası, 310°C’ye kadar ısınabilmektedir. Böylece yarı iletken ve ince film uygulamaları için ideal bir çözüm sunar. Ayrıca, yüksek sıcaklıkta hızlı pulslama özelliklerine sahip ALD vanaları, inert gaz yıkaması için ultrahızlı MFC ile entegre edilmiştir.
Çoklu Prekürsör ve Yüksek Hassasiyetli Kontrol
Bu ALD sistemi, 6 inçlik dairesel bir çuk ve özelleştirilebilir tasarımlar sunar. Böylelikle üç organometalik prekürsör ve iki (üç kadar) karşı reaksiyon maddesi kullanma imkanı sağlar. Prekürsörler, 150°C’ye kadar ısıtılabilir. Aynı zamanda işlem hatları boyunca da ısıtılabilmektedir. Böylelikle yüksek derinlikli penetrasyon ve yüksek maruziyet gerektiren yüzeyler için mükemmel sonuçlar elde edilmesini sağlar.
Kolay Bakım ve Düşük Enerji Tüketimi
Anric AT610 ALD, bakım açısından son derece basittir ve piyasadaki en düşük enerji ve prekürsör kullanımını sunar. Hızlı döngü kabiliyeti ve yüksek maruziyet özellikleri sayesinde, derin işleme ve dar alanlarda yüksek performans sağlanır. Ayrıca, sistemin metalden yapılmış tam sızdırmazlıkları, işlem sırasında maksimum güvenlik ve verimlilik sunar.
Teknik Özellikler ve Güvenlik Özellikleri
- Sistem Özellikleri: 300°C’ye kadar oda sıcaklığı ve 150°C’ye kadar prekürsör sıcaklıkları
- Kompakt Tasarım: Piyasadaki en küçük ayak izine sahip masaüstü kurulum
- Yüksek Güvenlik: Tam donanımlı donanım ve yazılım güvenlik kilitleri
- Çeşitli Seçenekler: Ozon jeneratörü, üçüncü karşı reaksiyon maddesi ve daha fazlası
Sonuç: Anric AT610 ALD ile Yüksek Performans
Anric AT610 Atomic Layer Deposition, yüksek hassasiyet ve esneklik isteyen uygulamalar için mükemmel bir çözümdür. İster araştırma laboratuvarlarında, ister endüstriyel üretim hatlarında kullanılsın, bu sistem yüksek verimliliği ve güvenliği ile öne çıkmaktadır. ALD uygulamaları için en iyi sonuçları almak için Anric AT610’i tercih edin.