Atomik Katman Biriktirme (ALD)

Anric Technology , özellikle Atomik Katman Biriktirme – ALD üzerine odaklanarak ince film biriktirme alanlarında teknoloji ve yeniliğe odaklanarak, zorlu ince film biriktirme uygulamalarına çözümler sunar. ALD’nin sizin için doğru olup olmadığını ve Anric Technology sistemlerinin optimum hız, esneklik ve fiyat kombinasyonunu nasıl sağladığını öğrenin.
Atomik Katman Biriktirme veya ALD, aşağıdaki uygulamalar için paha biçilmez bir araçtır.

  • Nano ölçekte problem çözme ve cihazlar yaratma
  • ALD sürecinin doğası gereği, önemli ve tanımlayıcı
  • Elde edilen filmlerin özellikleri üretilir.

ENERJİ

Silikon bazlı güneş pilleri – pasivasyon katmanı

NANO YAPI CİHAZLARI

Tek ve çok duvarlı karbon nanotüplerin kaplama / yüzey kimyası değişimi

BİYOTEKNOLOJİ

Yüzey modifikasyonu – 3B nesneler üzerinde biyouyumlu yüzey oluşturma

MİKROELEKTRONİK

Transistör yapıları – gate dielektrikleri, izolasyon çukurları, gate bağlantıları

ELYAF/TEKSTİL

Tekstil kaplama – Güç, renk ve diğer özellikler için eğrilmiş kumaşa uygulanan katmanlar

PLASTİK/POLİMERLER

Polimer yüzeylerde iletken tabakalar

KATALİZ

Yüksek yüzey alanlı katalizör yapıları – Gözenekli nanoyapıların aktif madde ile kaplanması.

NUMUNE HAZIRLAMA
SEM numuneleri için iletken katmanlar – Düşük sıcaklıklı iletkenlerin büyümesi.

Tek bir sonuç gösteriliyor


Ansolon