CVD Chemical Vapor Deposition Tanımı

CVD Chemical Vapor Deposition (Kimyasal Buhar Biriktirme) katı bir yüzeyin üzerine ince bir tabaka veya film oluşturmak için kullanılan bir malzeme üretim sürecidir. CVD işlemi, kimyasal reaksiyonların gaz fazındaki bileşenleri yüzey üzerine biriktirme işlemiyle gerçekleşir. Bu işlem sırasında gaz fazındaki bileşenler yüzeyde kimyasal reaksiyona girerek katı bir film oluştururlar.

Çalışma Prensibi

Kimyasal Buhar Biriktirme (Chemical Vapor Deposition veya CVD) katı bir yüzeyin üzerine ince bir film veya kaplama oluşturmak için kullanılan bir malzeme üretim yöntemidir. CVD işleminin temel çalışma prensibi gaz fazındaki kimyasal bileşenlerin yüzey üzerine taşınması ve burada kimyasal reaksiyonlarla katı bir film oluşturmasıdır.

Substrat Hazırlığı: CVD işlemi bir substrat olarak adlandırılan katı yüzey üzerine ince bir film oluşturmayı amaçlar. Bu substrat, temizlenir, gerektiğinde özel bir kaplama veya ön hazırlık işlemlerinden geçirilmektedir. Ayrıca işlem için hazır hale getirilmektedir.

Reaktif Gazların Hazırlanması: İşlemin bir parçası olarak kullanılacak reaktif gazlar özel gaz tüplerinden veya kaynaklardan hazırlanır. Bu gazlar, genellikle istenen filmi oluşturacak kimyasal elementleri içerir.

Gazların Taşınması: Hazırlanan reaktif gazlar bir taşıma sistemi veya gaz iletim sistemleri aracılığıyla işlem reaktörüne taşınmaktadır. Bu reaktör, gazların substrat yüzeyi ile etkileşime girdiği yerdir.

Kimyasal Reaksiyon: Reaktif gazlar, işlem reaktöründe substrat yüzeyine ulaşır. Bu aşamada, gazlar substrat yüzeyinde kimyasal reaksiyonlara girerler. Bu reaksiyonlar sonucunda gazlar katı bir film veya kaplama oluşturacak kimyasal bileşenlere dönüşür.

Film Oluşumu: Kimyasal reaksiyonlar sırasında oluşan ürünler substrat yüzeyinde birikir ve ince bir film veya kaplama oluşturur. Bu film, işlem süresi boyunca kalınlığını artırabilmektedir. Film kalitesi ve özellikleri, işlem koşulları ve kullanılan gazların türüne bağlı olarak değişebilmektedir.

CVD işlemi yarıiletken cihazlar, kaplamalar, yüzey mühendisliği, optoelektronik cihazlar, nanoteknoloji ve malzeme bilimi alanlarında çeşitli uygulamalara sahiptir. İşlem koşulları ve kullanılan reaktif gazlar, sonuçta elde edilen filmin özelliklerini kontrol etmek için ayarlanabilir, bu da farklı endüstriyel ve bilimsel amaçlar için çok yönlülüğünü artırır.

CVD Kullanım Alanları

Kaplama ve Yüzey Mühendisliği: Metaller, seramikler, polimerler ve diğer malzemelerin yüzeylerine ince kaplamaların uygulanmasında kullanılmaktadır. Bu kaplamalar, aşınma direncini artırabilmektedir. Isı yalıtımı sağlayabilir veya yüzey özelliklerini iyileştirebilir.

Optoelektronik Cihazlar: Optik lifler, güneş pilleri, LED’ler (Light Emitting Diode) ve lazer diyotları gibi optoelektronik cihazların üretiminde kullanılmaktadır. Bu cihazların performansını artırmak ve özelleştirmek için ince film kaplamalar gerekebilmektedir.

Malzeme Bilimi ve Araştırma: CVD malzeme bilimi alanında yeni malzemelerin sentezinde ve özelliklerin incelenmesinde kullanılmaktadır. Özellikle nanoteknoloji çalışmaları için önemlidir.

Mikromekanik Sistemler (MEMS): CVD MEMS cihazlarının üretiminde kullanılmaktadır. MEMS mikroskobik ölçekte çalışan mekanik ve elektromekanik cihazları içerir ve cep telefonlarından mikrofonlar, ivme ölçerler ve mikro-optik sistemlere kadar birçok uygulama için kullanılmaktadır.

Yüzey Kaplamaları ve Kaplamalar: Takı, metal kaplama, ayna kaplama ve kesme aletlerinin kaplanması gibi birçok endüstriyel kaplama işleminde kullanılmaktadır.

Enerji Depolama ve Dönüşüm: CVD enerji depolama sistemlerinin bileşenlerinin üretiminde (örneğin; lityum iyon pil elektrotları) ve enerji dönüşüm cihazlarının geliştirilmesinde (örneğin, yakıt hücreleri) kullanılmaktadır.

Yarıiletken Optoelektronik: CVD yarıiletken optoelektronik cihazlar için önemlidir. Bu cihazlar, optik iletişim, lazerler ve optik algılama gibi uygulamalarda kullanılmaktadır.

Malzeme üretimi ve geliştirilmesi için önemli bir araçtır. Ayrıca birçok farklı sektörde geniş bir uygulama yelpazesi sunmaktadır.

Opt-Cvd 1400 Cvd Fırını

CVD tüp fırını, 1400 ℃ ‘de çeşitli CVD deney reaksiyon sıcaklığı için yaygın olarak kullanılmaktadır. Ayrıca vakum sinterleme, vakum koruyucu atmosfer sinterleme nano malzemelerinin hazırlanması, batarya malzemeleri hazırlama ve diğer araştırma alanları için kullanılabilmektedir.

Opt-Cvd 1400 Cvd Fırını Özellikler

Maksimum Sıcaklık : 1400°C
Devamlı Çalışma Sıcaklığı : 1300 °C
Kontrol Paneli : Windows İşletim Sistemi Tabanlı LCD Dokunmatik Ekran
Programlanabilme : 30 adım programlanabilme özelliği ayrıca,
Isıtma Elementi : Fe-Cr-Al alaşımı katkılı Mo ayrıca,
Thermocouple : K tipi ayrıca,
Tüp: Quartz ayrıca,
Tüp Çapı : Opsiyonel olarak belirlenebilir. Standart tüpler 50mm OD x 1000 mm uzunluğa sahiptir.
Isıtma Hızı : Maksimum 20 °C / dk. Ortalama 10 °C/dk

Isıtma Bölgesi : Opsiyonel olarak 300-400-500 mm olarak tercih edilebilmektedir. Sistemler standart olarak tek ısıtma bölgesine sahiptir. Ancak tercih edildiği takdirde birbirinden bağımsız çalışabilen üç ısıtma bölgeli tasarlanabilmektedir.

Termal Kontrol Sistemi ve Hassasiyeti : PID kontrol sistemi ile ±1 °C hassasiyet
Bağlantı : 220V 50-60Hz
Sistem tüpe bağlanacak vakum flanşları (paslanmaz çelikten imal edilmiş) ve manuel vakum manometresi içerir.

MFC Teknik Özellikleri

Standart CVD sistemleri 0-200 sccm gaz akış debisi aralığında 3 bağımsız kütle akış kontrolörü içerir.
MFC’lerin sayısı 1-4 arasında tercih edilmektedir. Ayrıca debisi 0-500 sccm aralığına kadar opsiyonel olarak yükseltilebilmektedir.
Kontrol Paneli : Windows işletim sistemi tabanlı LCD Dokunmatik ekran
Sisteme vakum pompası dahildir.

Benzer ürünlere buradan ulaşabilirsiniz. Ayrıca tüm ürünleri de buradan inceleyebilirsiniz.