• +90 312 236 42 07
  • teknotip@teknotip.com.tr
teknotip-logoteknotip-logoteknotip-logoteknotip-logo
  • Anasayfa
  • Kurumsal
  • Ürünler
      • Atomik Kuvvet Mikroskobu
      • Bilgisayarlı Mikro Tomografi
      • Optik Profilometre
      • Stylus Profilometre
      • İnce Film Kalınlık Ölçüm Sistemleri
      • Solar Simülatör ve Quantum Test
      • Tribometre Ve Nano Indenter
      • Plazma Sistemleri
      • Glovebox Sistemleri
      • Spin Coater
      • Dip Coater
      • Dört Nokta Prob Ölçüm Sistemleri
      • Litografi Sistemleri
      • Laboratuvar Fırınları
      • Potansiyostat / Galvanostat
      • Spektrometre
      • Spektrofotometre ve Kolorimetre
      • Elektrospin Sistemleri
      • Şırınga Pompası
      • Dielektrik Empendans Spektrometresi
      • Yüksek Voltaj Güç Kaynağı
      • Confocal Raman Ve Photolüminesans
      • Cryogenic Sistemler
      • Wire Bonder
      • Termal Evaporatör
      • Magnetron Sputter Kaplama Sistemi
      • Sarf Malzemeler
      • Taramalı Elektron Mikroskobu (SEM)
      • Elipsometre
      • Atomik Katman Biriktirme (ALD)
      • Termal Analiz Sistemleri
      • Fotokatalitik Reaktör ve Xenon Işık Kaynakları
      • Batarya Arge Ekipmanları
      • Örnek Hazırlama
      • Titreşim Önleyici Tabla
      • Sertlik Ölçüm Sistemleri
      • Rapid Thermal Annealing System
      • Kütle Akış Kontrol Sistemleri
  • Hizmetler
  • Temsilcilikler
  • Blog
  • İletişim
✕

Ürünler

  • Anasayfa
  • Laboratuvar Fırınları
  • CVD-PECVD Sistemleri
  • Opt-Cvd1700 Cvd Fırın
Opt-Cvd1700 Cvd Fırın

Opt-Cvd1700 Cvd Fırın

CVD tüp fırın, 1600 ℃ ‘de çeşitli CVD deney reaksiyon sıcaklığı için yaygın olarak kullanılır, ayrıca vakum sinterleme, vakum koruyucu atmosfer sinterleme nano malzemelerinin hazırlanması, batarya malzemeleri hazırlama ve diğer araştırma alanları için kullanılabilir.

Stok kodu: Opt-Cvd1700 Cvd Fırın Kategoriler: CVD-PECVD Sistemleri
  • Açıklama

Opt-Cvd1700 Cvd Fırın

CVD tüp fırını, 1600 ℃ ‘de çeşitli CVD deney reaksiyon sıcaklığı için yaygın olarak kullanılmaktadır. Ayrıca vakum sinterleme, vakum koruyucu atmosfer sinterleme nano malzemelerinin hazırlanması, batarya malzemeleri hazırlama ve diğer araştırma alanları için kullanılabilmektedir.

CVD-PECVD FIRINLAR

Kimyasal biriktirme (Chemical Vapor Deposition) işlemlerinde kullanılmaktadır. Özellikle ince film büyütme Grafen(Graphen) Li-Ion batarya çalışmalarında AR-GE laboratuvarları tarafından tercih edilmektedir.

Bilgisayar kontrollü MFC gaz dağıtım sistemi ile çok hassas şekilde akış denetimi yapabilmektedir.

Windows tabanlı tüp fırın ve Rotary veya Turbo moleküler pompa sistemi ile istenilen vakum seviyesi kolayca ulaşılabilmektedir.

Kullanıcı isteğine bağlı olarak çok tipte CVD (kimyasal buharlaştırama) sistemi üretilebilmektedir.

Opt-Cvd1700 Cvd Fırın Özellikleri

Maksimum Sıcaklık : 1700°C ayrıca,
Devamlı Çalışma Sıcaklığı : 1600 °C ayrıca,
Kontrol Paneli : Windows İşletim Sistemi Tabanlı LCD Dokunmatik Ekran ayrıca,
Programlanabilme : 30 adım programlanabilme özelliği ayrıca,
Isıtma Elementi : Fe-Cr-Al alaşımı katkılı Mo ayrıca,
Thermocouple : B tipi ayrıca,
Tüp: Alumina ayrıca,
Tüp Çapı : Opsiyonel olarak belirlenebilmektedir. Standart tüpler 50mm OD x 1000 mm uzunluğa sahiptir. Ayrıca,
Isıtma Hızı : Maksimum 20 °C / dk. Ortalama 10 °C/dk

Isıtma Bölgesi : Opsiyonel olarak 300-400-500 mm olarak tercih edilebilmektedir. Sistemler standart olarak tek ısıtma bölgesine sahiptir ancak tercih edildiği takdirde birbirinden bağımsız çalışabilen üç ısıtma bölgeli tasarlanabilmektedir.

Termal Kontrol Sistemi ve Hassasiyeti : PID kontrol sistemi ile ±1 °C hassasiyet
Bağlantı : 220V 50-60Hz
Sistem tüpe bağlanacak vakum flanşları (paslanmaz çelikten imal edilmiş) ve manuel vakum manometresi içerir.

Opt-Cvd1700 Cvd Fırın Opsiyonlar

  • Tüp çapı 30-200 mm arasında opsiyonel olarak değiştirilebilmektedir.
  • Isıtma bölgesi 200-440 mm arasında seçilebilmektedir.
  • Fırın üç bölgeye kadar ısıtma opsiyonuna sahip olabilmektedir.
  • Fırın split tip (üstten açılır kapaklı) yapıya sahip bir opsiyonla tercih edilebilir.
  • Mekanik pompagücü değiştirilebilmektedir.
  • Turbo pompa opsiyonel olarak eklenebilmektedir.
  • Dijital vakum gauge opsiyonel olarak eklenebilmektedir.
  • MFC gazlarının kanal sayısı 2-6 arasında opsiyonel olarak eklenebilmektedir.
  • Plazma

MFC Teknik Özellikleri

Standart CVD sistemleri 0-200 sccm gaz akış debisi aralığında 3 bağımsız kütle akış kontrolörü içerir.
MFC’lerin sayısı 1-4 arasında tercih edilebilir ve debisi 0-500 sccm aralığına kadar opsiyonel olarak yükseltilebilir.
Kontrol Paneli : Windows işletim sistemi tabanlı LCD Dokunmatik ekran
Sisteme vakum pompası dahildir.

Opt-Cvd1700 Cvd Fırın benzeri ürünlere buradan ulaşabilirsiniz. Ayrıca tüm ürünleri de buradan inceleyebilirsiniz.

İlgili ürünler

  • Opt-Pecvd 1200 Pecvd Fırını

    Opt-Pecvd 1400 Pecvd Fırını

  • Opt-Pecvd 1200 Pecvd Fırını

    Opt-Pecvd 1200 Pecvd Fırını

  • Opt-Pecvd 1200 Pecvd Fırını

    Opt-Pecvd1700 Pecvd Fırın

Menüler

  • Anasayfa
  • Kurumsal
  • Hizmetler
  • Temsicilikler
  • İletişim
Ürünler

  • Atomik Kuvvet Mikroskobu
  • Optik Profilometre
  • Stylus Profilometre
  • Solar Simülatör ve Quantum Test
  • Tribometre Ve Nano Indenter
  • Plazma Sistemleri
  • Glovebox Sistemleri
  • Döner ve Daldırmalı Kaplama
  • Dört Nokta Prob Ölçüm Sistemleri
  • Litografi Sistemleri
Ürünler

  • Laboratuvar Fırınları
  • Elektro Kimyasal Analizör
  • Spektrometreler
  • Spektrofotometreler ve Kolori.
  • Elektrospinning Sistemleri
  • Şırınga Pompası
  • Dielektrik Empendans Spektrome.
  • Yüksek Voltaj Güç Kaynağı
  • Confocal Raman Ve Foto.
  • Cryogenic Sistemler
Ürünler

  • Sarf Malzemeler
  • Taramalı Elektron Mikroskobu
  • Elipsometre
  • Atomik Katman Biriktirme (ALD)
  • Termal Analiz Sistemleri
  • Reaktör Ve Xenon Işık Kaynakları
  • Batarya Arge Ekipmanları
  • Örnek Hazırlama
  • Titreşim Önleyici Tabla
  • Bilgisayarlı Mikro Tomografi
© 2023 Tekno Tıp Analitik Sistemleri.
  • +90 312 236 42 07
  • teknotip@teknotip.com.tr