PECVD Fırın OPT-1700

Yüksek Sıcaklıkta Plazma Destekli İnce Film Kaplama Sistemi PECVD Fırın OPT-1700

PECVD Fırın OPT-1700, plazma destekli kimyasal buhar biriktirme (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition – PECVD) uygulamalarında yüksek sıcaklık, hassas proses kontrolü ve güvenilir performans sunan gelişmiş bir laboratuvar sistemidir. RF plazma teknolojisini gelişmiş sıcaklık yönetimiyle bir araya getiren bu sistem, yüksek kaliteli ince film kaplamaları oluştururken aynı zamanda proses tekrarlanabilirliğini artırır. Bu nedenle üniversiteler, araştırma merkezleri ve ileri teknoloji laboratuvarları tarafından geniş kullanım alanına sahiptir.

1700°C maksimum çalışma sıcaklığı ve 1600°C sürekli çalışma kapasitesi sayesinde PECVD Fırın OPT-1700, yüksek sıcaklık gerektiren kaplama ve malzeme geliştirme uygulamalarında üstün performans sağlar. PID kontrollü sıcaklık sistemi ±1°C hassasiyet sunarken aynı zamanda Windows tabanlı dokunmatik kontrol paneli tüm sürecin kolay ve güvenli şekilde yönetilmesine olanak tanır. Ayrıca 30 adımlı programlama desteği sayesinde farklı proses reçeteleri oluşturabilir ve deneylerin standart koşullarda tekrarlanmasını sağlayabilirsiniz.

Bilgisayar kontrollü MFC gaz dağıtım sistemi, gaz akışını hassas şekilde düzenler. Bunun yanında RF plazma ünitesi, kaplama kalitesini artırırken daha homojen ince film oluşumuna katkı sağlar. Rotary veya turbo moleküler pompa desteği sayesinde sistem kısa sürede istenilen vakum seviyesine ulaşır ve proses boyunca kararlı çalışma koşullarını korur.

Öne Çıkan Özellikler

• 1700°C maksimum çalışma sıcaklığı
• 1600°C sürekli çalışma kapasitesi
• RF 13.56 MHz plazma teknolojisi
• 5–500 W hassas plazma güç kontrolü
• PID kontrollü ±1°C sıcaklık hassasiyeti
• Windows tabanlı LCD dokunmatik kontrol paneli
• 30 adımlı programlama desteği
• Alumina tüp yapısı
• Hassas MFC gaz akış kontrol sistemi
• Rotary ve turbo moleküler pompa desteği
• Entegre vakum sistemi

Gelişmiş Proses Kontrolü ve Esnek Yapı

Farklı araştırma projeleri farklı proses gereksinimleri oluşturur. Bu nedenle PECVD Fırın OPT-1700, laboratuvar ihtiyaçlarına göre kolayca yapılandırılabilir. Aynı zamanda kullanıcılar tüp çapını ve ısıtma bölgesini uygulamaya uygun şekilde belirleyebilir. Ayrıca tek bölgeli veya bağımsız üç bölgeli ısıtma seçenekleri sayesinde farklı sıcaklık profilleri oluşturabilir.

RF plazma ünitesi 5 ile 500 W arasında hassas güç kontrolü sunarken hava soğutmalı tasarımı sayesinde uzun süreli çalışmalarda sistem kararlılığını korur. Bununla birlikte MFC gaz kontrol sistemi farklı gaz kombinasyonlarını yüksek doğrulukla yönetir. Böylece araştırmacılar kaplama kalınlığını, film homojenliğini ve yüzey özelliklerini hassas şekilde kontrol edebilmektedir.

Kullanım Alanları

PECVD Fırın OPT-1700, ileri teknoloji laboratuvarlarında ve yüksek sıcaklık gerektiren araştırma projelerinde geniş kullanım alanı sunar.

• İnce film kaplama uygulamaları
• Grafen üretimi
• Yarı iletken araştırmaları
• Optoelektronik cihaz geliştirme
• Nanomalzeme sentezi
• Lityum iyon batarya araştırmaları
• Pasivasyon katmanı üretimi
• Yüzey modifikasyonu
• İleri malzeme geliştirme
• Üniversite ve Ar-Ge laboratuvarları

Benzer ürünlere buradan ulaşabilirsiniz. Ayrıca tüm ürünleri de buradan inceleyebilirsiniz.