CVD Fırın OPT-1700
OPT-1700 CVD Fırın, yüksek sıcaklıkta kimyasal buhar biriktirme (CVD) prosesleri için geliştirilen gelişmiş bir tüp fırın sistemidir. Ayrıca Grafen, ince film kaplama, batarya malzemeleri ve nanomalzeme araştırmalarında hassas sıcaklık ve gaz kontrolüyle güvenilir sonuçlar sunar.
Yüksek Sıcaklıkta Hassas CVD Prosesleri İçin Güçlü Çözüm
OPT-1700 CVD Fırın, kimyasal buhar biriktirme (Chemical Vapor Deposition – CVD) uygulamalarında yüksek sıcaklık kararlılığı ve aynı zamanda hassas proses kontrolü sağlayan profesyonel bir laboratuvar sistemidir. Özellikle grafen üretimi, ince film kaplama, nanomalzeme sentezi ve lityum iyon batarya araştırmaları gibi ileri teknoloji çalışmalarında yüksek performans gösterir. Bununla birlikte kullanıcılar, gelişmiş kontrol altyapısı sayesinde farklı araştırma senaryolarına kolayca uyum sağlayabilir.
1700 °C maksimum sıcaklık kapasitesi ve 1600 °C sürekli çalışma sıcaklığı sayesinde OPT-1700 CVD Fırın, uzun süreli deneylerde sıcaklık kararlılığını korur. PID kontrollü sistem, ±1 °C sıcaklık hassasiyeti sunarken aynı zamanda Windows tabanlı dokunmatik kontrol paneli süreç yönetimini kolaylaştırır. Ayrıca programlanabilir çalışma yapısı sayesinde araştırmacılar farklı sıcaklık profillerini tek sistem üzerinden yönetebilir.
OPT-1700 CVD Fırın Öne Çıkan Özellikler
- 1700 °C maksimum çalışma sıcaklığı
- 1600 °C sürekli çalışma kapasitesi
- PID kontrollü ±1 °C sıcaklık hassasiyeti
- Windows tabanlı LCD dokunmatik kontrol paneli
- 30 adımlı program oluşturma desteği
- Maksimum 20 °C/dk ısıtma hızı
- Alumina tüp yapısı
- Paslanmaz çelik vakum flanşları
- Manuel vakum manometresi
- Entegre vakum pompası
- Hassas MFC gaz akış kontrol sistemi
Esnek Konfigürasyon Seçenekleri
Araştırma ihtiyaçları birbirinden farklı olabilmektedir. Bu nedenle OPT-1700, birçok farklı konfigürasyon seçeneği sunar. Kullanıcılar tüp çapını, ısıtma bölgesini ve gaz kontrol sistemini uygulamalarına göre özelleştirilebilmektedir. Ayrıca üç bölgeli bağımsız ısıtma sistemi, split tip açılır kapak tasarımı, turbo pompa ve dijital vakum göstergesi gibi seçenekler sayesinde sistem çok daha geniş bir kullanım alanına ulaşır.
Bunun yanında MFC gaz kontrol sistemi 1 ila 4 bağımsız kanal arasında yapılandırılabilmektedir. Gaz debisi ise uygulamaya göre daha yüksek değerlere uyarlanabilmektedir. Böylece farklı gaz kombinasyonlarıyla çalışan araştırma projelerinde yüksek proses kontrolü elde edilmektedir.
Kullanım Alanları
OPT-1700 CVD Fırın, birçok farklı araştırma ve üretim sürecinde güvenle kullanılabilmektedir.
- Grafen üretimi
- İnce film kaplama çalışmaları
- Karbon nanotüp araştırmaları
- Nanomalzeme sentezi
- Lityum iyon batarya geliştirme
- Vakum sinterleme
- Koruyucu atmosfer altında sinterleme
- Üniversite laboratuvarları
- Ar-Ge merkezleri
- Malzeme bilimi araştırmaları
