CVD Fırın OPT-1200

Kimyasal Buhar Biriktirme Uygulamaları İçin Güvenilir ve Esnek Çözüm

CVD Fırın OPT-1200, kimyasal buhar biriktirme (Chemical Vapor Deposition – CVD) süreçlerinde yüksek sıcaklık kararlılığı ve aynı zamanda hassas proses kontrolü sağlayan profesyonel bir tüp fırın sistemidir. Üniversiteler, araştırma laboratuvarları ve Ar-Ge merkezleri; ince film üretimi, grafen sentezi, nanomalzeme geliştirme ve batarya teknolojileri üzerine yürüttükleri çalışmalarda bu sistemi güvenle kullanır. Bunun yanında vakum sinterleme ve koruyucu atmosfer altında gerçekleştirilen ısıl işlemler için de yüksek verim sunar.

1200°C maksimum sıcaklık ve 1100°C sürekli çalışma kapasitesi sayesinde CVD Fırın OPT-1200, uzun süreli deneylerde kararlı performans sağlar. PID kontrollü sıcaklık sistemi ±1°C hassasiyet sunarken Windows tabanlı dokunmatik kontrol paneli tüm prosesi kolay ve ayrıca güvenilir şekilde yönetmenize olanak tanır. Ayrıca 30 adımlı programlama özelliği sayesinde farklı deney senaryolarını kaydedebilir. Böylelikle tekrar eden işlemleri pratik şekilde gerçekleştirebilirsiniz.

Öne Çıkan Özellikler

• 1200°C maksimum çalışma sıcaklığı
• 1100°C sürekli çalışma kapasitesi
• PID kontrollü ±1°C sıcaklık hassasiyeti
• Windows tabanlı LCD dokunmatik kontrol paneli
• 30 adımlı programlama desteği
• Quartz tüp yapısı
• Maksimum 20°C/dk ısıtma hızı
• Paslanmaz çelik vakum flanşları
• Manuel vakum manometresi
• Entegre vakum pompası
• Hassas MFC gaz akış kontrol sistemi

Esnek Konfigürasyon Seçenekleri

Farklı uygulamalar farklı donanım gereksinimleri oluşturur. Bu nedenle CVD Fırın OPT-1200, laboratuvar ihtiyaçlarına göre kolayca özelleştirilebilmektedir. Böylelikle kullanıcılar tüp çapını 30 mm ile 200 mm arasında belirleyebilmektedir. Ayrıca ısıtma bölgesi uzunluğu 200 mm ile 440 mm arasında seçilebilir ve sistem üç bağımsız ısıtma bölgesine kadar yapılandırılabilir.

Buna ek olarak split tip üstten açılır kapak tasarımı, turbo vakum pompası, dijital vakum göstergesi, plazma modülü ve 2 ila 6 kanallı MFC gaz kontrol sistemi gibi birçok opsiyon sisteme eklenebilir. Aynı zamanda flanş tasarımını da uygulamaya uygun şekilde özelleştirmek mümkündür. Böylece araştırmacılar farklı proses ihtiyaçlarına tek platform üzerinden çözüm üretebilmektedir.

Kullanım Alanları

CVD Fırın OPT-1200, birçok farklı araştırma ve geliştirme sürecinde başarılı sonuçlar sunar.

• Grafen üretimi
• İnce film kaplama uygulamaları
• Nanomalzeme sentezi
• Vakum sinterleme prosesleri
• Koruyucu atmosfer altında sinterleme
• Lityum iyon batarya araştırmaları
• Yarı iletken teknolojileri
• Optoelektronik uygulamaları
• Malzeme bilimi araştırmaları
• Üniversite ve Ar-Ge laboratuvarları