CVD Fırın OPT-1400
CVD Fırın OPT-1400, 1400°C maksimum çalışma sıcaklığı, hassas gaz kontrolü ve aynı zamanda özelleştirilebilmekte olan yapısıyla kimyasal buhar biriktirme süreçlerinde yüksek performans sunar. Grafen, ince film, nanomalzeme ve batarya teknolojileri üzerine çalışan laboratuvarlar için güvenilir bir CVD çözümüdür.
Yüksek Hassasiyetli CVD Prosesleri İçin Gelişmiş Tüp Fırın
CVD Fırın OPT-1400, kimyasal buhar biriktirme (Chemical Vapor Deposition – CVD) uygulamalarında yüksek sıcaklık kararlılığı, hassas gaz kontrolü ve ayrıca esnek yapılandırma seçenekleri sunan profesyonel bir laboratuvar sistemidir. Bu sayede üniversiteler, Ar-Ge merkezleri ve endüstriyel araştırma laboratuvarları; ince film kaplama, grafen üretimi, nanomalzeme sentezi ve batarya teknolojileri geliştirme çalışmalarında bu sistemi güvenle tercih eder. Bunun yanında vakum sinterleme ve koruyucu atmosfer altında gerçekleştirilen proseslerde de başarılı sonuçlar elde edilir.
1400°C maksimum sıcaklık ve 1300°C sürekli çalışma kapasitesi sayesinde CVD Fırın OPT-1400, uzun süreli deneylerde sıcaklık kararlılığını korur. PID kontrollü sistem ±1°C sıcaklık hassasiyeti sağlarken aynı zamanda Windows tabanlı dokunmatik kontrol paneli tüm süreci kolayca yönetmenize yardımcı olur. Ayrıca 30 adımlı programlama özelliği sayesinde farklı prosesleri tek sistem üzerinden planlayabilir ve tekrar edilebilir deney koşulları oluşturabilirsiniz.
Öne Çıkan Özellikler
- 1400°C maksimum çalışma sıcaklığı
- 1300°C sürekli çalışma kapasitesi
- PID kontrollü ±1°C sıcaklık hassasiyeti
- Windows tabanlı LCD dokunmatik kontrol paneli
- 30 adımlı program oluşturma desteği
- Quartz tüp yapısı
- Maksimum 20°C/dk ısıtma hızı
- Paslanmaz çelik vakum flanşları
- Manuel vakum manometresi
- Entegre vakum pompası
- Hassas MFC gaz akış kontrol sistemi
Esnek Konfigürasyon Seçenekleri
Her araştırma projesi farklı gereksinimler içerir. Bu nedenle CVD Fırın OPT-1400, laboratuvar ihtiyaçlarına uygun şekilde yapılandırılabilmektedir. Kullanıcılar tüp çapını 30 mm ile 200 mm arasında seçebilmektedir. Ayrıca ısıtma bölgesi uzunluğu 200 mm ile 440 mm arasında değiştirilebilmekte ve sistem üç bağımsız ısıtma bölgesine kadar genişletilebilmektedir.
Bununla birlikte turbo vakum pompası, dijital vakum göstergesi, plazma modülü ve 2 ila 6 kanallı MFC gaz kontrol sistemi gibi opsiyonlar da sisteme eklenebilmektedir. Böylece kullanıcılar farklı gaz kombinasyonlarını hassas şekilde yönetebilir. Aynı zamanda uygulamaya özel prosesler geliştirilebilmektedir.
Kullanım Alanları
CVD Fırın OPT-1400, geniş uygulama yelpazesi sayesinde birçok araştırma ve üretim sürecinde yüksek verim sunar.
- Grafen üretimi
- İnce film kaplama uygulamaları
- Nanomalzeme sentezi
- Vakum sinterleme prosesleri
- Koruyucu atmosfer altında sinterleme
- Lityum iyon batarya araştırmaları
- Yarı iletken ve optoelektronik çalışmaları
- MEMS teknolojileri
- Malzeme bilimi araştırmaları
- Üniversite ve Ar-Ge laboratuvarları
