PECVD Fırın OPT-1400
PECVD Fırın OPT-1400, plazma destekli kimyasal buhar biriktirme teknolojisi ile yüksek kaliteli ince film kaplamaları oluşturur. 1400°C çalışma kapasitesi, hassas gaz kontrolü ve RF plazma sistemi sayesinde yarı iletken, grafen ve batarya Ar-Ge projelerinde güvenilir performans sunar.
İleri Seviye İnce Film Kaplama ve Plazma Destekli Biriktirme Sistemi PECVD FIRIN OPT-1400
PECVD Fırın OPT-1400, plazma destekli kimyasal buhar biriktirme (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition – PECVD) uygulamalarında yüksek sıcaklık kararlılığı ve hassas proses kontrolü sağlayan gelişmiş bir laboratuvar sistemidir. Plazma teknolojisi sayesinde düşük sıcaklıklarda yüksek kaliteli ince film kaplamaları oluştururken aynı zamanda yüzey özelliklerini hassas şekilde kontrol etme imkânı sunar. Bu nedenle üniversiteler, araştırma merkezleri ve ileri teknoloji laboratuvarları tarafından yaygın olarak tercih edilir.
1400°C maksimum çalışma sıcaklığı ve 1300°C sürekli çalışma kapasitesi sayesinde PECVD Fırın OPT-1400, zorlu proseslerde dahi kararlı performans sunar. PID kontrollü sıcaklık sistemi ±1°C hassasiyet sağlarken aynı zamanda Windows tabanlı dokunmatik kontrol paneli kullanıcıların tüm prosesi kolayca yönetmesine yardımcı olur. Ayrıca 30 adımlı programlama desteği sayesinde farklı kaplama reçeteleri oluşturabilir ve deneylerin tekrarlanabilirliğini artırabilirsiniz.
Bilgisayar kontrollü MFC gaz dağıtım sistemi, gaz akışını hassas şekilde yönetir. Bunun yanında rotary veya turbo moleküler pompa desteği sayesinde istenilen vakum seviyesine kısa sürede ulaşabilirsiniz. Böylece PECVD Fırın OPT-1400, ince film büyütme, grafen üretimi ve ileri malzeme araştırmalarında güvenilir sonuçlar elde etmenizi sağlar.
Öne Çıkan Özellikler
- 1400°C maksimum çalışma sıcaklığı
- 1300°C sürekli çalışma kapasitesi
- RF 13.56 MHz plazma teknolojisi
- 5–500 W hassas plazma güç kontrolü
- PID kontrollü ±1°C sıcaklık hassasiyeti
- Windows tabanlı LCD dokunmatik kontrol paneli
- 30 adımlı programlama desteği
- Quartz tüp yapısı
- Hassas MFC gaz akış kontrol sistemi
- Rotary ve turbo moleküler pompa desteği
- Entegre vakum sistemi
Geniş Uygulama Esnekliği
Her araştırma projesi farklı proses gerektirir. Bu nedenle PECVD OPT-1400, laboratuvar ihtiyaçlarına göre kolayca yapılandırılabilir. Ayrıca kullanıcılar tüp çapını ve ısıtma bölgesini uygulamaya uygun şekilde belirleyebilmektedir. Ayrıca bağımsız ısıtma bölgeleri ve gelişmiş gaz kontrol sistemi sayesinde farklı kaplama süreçlerini yüksek hassasiyetle yönetebilmektedir.
RF plazma ünitesi 5 ile 500 W arasında hassas güç kontrolü sunar. Ayrıca hava soğutmalı tasarımı ve düşük gürültü seviyesi ise uzun süreli çalışmalarda sistem kararlılığını korur. Böylelikle ince film kalitesi, yüzey homojenliği ve proses tekrarlanabilirliği önemli ölçüde artar.
Kullanım Alanları
PECVD Fırın, ileri teknoloji laboratuvarlarında ve aynı zamanda endüstriyel Ar-Ge projelerinde geniş kullanım alanına sahiptir.
- İnce film kaplama uygulamaları
- Grafen üretimi
- Yarı iletken araştırmaları
- Optoelektronik cihaz geliştirme
- MEMS teknolojileri
- Nanomalzeme sentezi
- Lityum iyon batarya araştırmaları
- Pasivasyon katmanı üretimi
- Yüzey modifikasyonu
- Üniversite ve Ar-Ge laboratuvarları
Benzer ürünlere buradan ulaşabilirsiniz. Ayrıca tüm ürünleri de buradan inceleyebilirsiniz.
