Maskless Lithography
MIVA Mask Writer (Maske Oluşturma Cihazları), her görüntüleme projektöründe Dört Dalga Boylu Yarı İletken ışık kaynakları kullanır. Bu, müşterilerinin tercih ettiği fotorezist veya lehim maskesi tipinin pozlama optimizasyonunu sağlar. Artırılmış DI verimi için, saha içi yükseltme olarak da çok kafalı sistemler mevcuttur. Işık Kaynakları, sahada Swap ve Go ile değiştirilebilir.
Maskless Lithography Nedir?
Maskless lithography Mask Writer geleneksel fotolitografinin aksine, fotomaske veya şablon kullanmadan yarı iletken ve mikrosistem teknolojilerinde mikro ve nano ölçekte desenleme yapma yöntemidir. Bu teknik, doğrudan bir yüzeye desenleme yapabilen özel bir ışık kaynağı ve ölçüm sistemi kullanır. Maskless lithography’nin temel amacı, üretim süreçlerini daha esnek ve maliyet etkin hale getirerek özellikle entegre devre (IC) üretiminde ve mikroelektronik endüstrisinde kullanılan geleneksel fotolitografi yöntemlerinin sınırlamalarını aşmaktır. Bu yöntem, daha karmaşık desenleri oluşturabilme, prototip üretimini hızlandırabilme ve özel tasarımlara uyum sağlama yeteneği ile dikkat çeker. Maskless lithography, nanoteknoloji ve mikrofabrikasyon uygulamalarında daha fazla esneklik ve özelleştirme sağlamak amacıyla sürekli olarak geliştirilmektedir.
MIVA Mask Writer Maskless Lithography
MIVA Mask Writer (Maske Oluşturma Cihazları), her görüntüleme projektöründe Dört Dalga Boylu Yarı İletken ışık kaynakları kullanır. Bu, müşterimizin tercih ettiği fotorezist veya lehim maskesi tipinin pozlama optimizasyonunu sağlar. Artırılmış DI verimi için, saha içi yükseltme olarak da çok kafalı sistemler mevcuttur. Işık Kaynakları, sahada Swap ve Go ile değiştirilebilir.
MIVA Mask Writer (Maske Oluşturma Cihazları): Filmlerin veya maskelerin yüklenmesi ve boşaltılması için ortama uygun güvenli aydınlatmaya sahip bir oda gereklidir. Pozlama sırasında görüntüleyici hafiftir ve normal çalışma ışıkları açılabilir.
MIVA Mask Writer (Maske Oluşturma Cihazları) sistemleri çok çeşitli görüntüleme çözünürlükleri sunar (3 000 dpi’den 128 000 dpi’ye kadar).
MIVA Mask Writer (Maske Oluşturma Cihazları) sistemleri, piyasada mevcut olan en küçük nokta boyutlarından birine sahiptir (minimum 0,8 mikrondur) ve bu nedenle yüksek kaliteli ve yüksek süreklilik ile çok ince çizgiler oluşturabilir.
MIVA Mask Writer Genel Özellikleri
|
20nm 0,4µm (3σ): 2,5 µm |
|
H: 63” / 160 cm, B: 48” / 122 cm, T: 60” / 153 cm; Ağırlık: 865 kg |
|
60L/min @ 6 bar için entegre gaz filtreleme sistemi veya isteğe bağlı hava kompresörü |
|
DMD Rester Görüntü Projeksiyon Teknolojisi/ Katı hal UV ışık kaynakları |
|
21°C % 50 RH |
|
Gerber RS ‘274-X, PostScript, TIFF, isteğe bağlı diğerleri |
|
2″x2″
12″x12″ |
|
Optik (kamera) hizalama sistemleri ± 15 µm |
Benzer ürünlere buradan veya buradan ulaşabilirsiniz. Bu cihazın ne işe yaradığını detaylı bir şekilde buradan görebilirsiniz.