CVD Chemical Vapor Deposition Opt 1400
- Tüp çapı 30-200 mm arasında opsiyonel olarak değiştirilebilir.
- Isıtma bölgesi 200-440 mm arasında seçilebilir.
- Fırın üç bölgeye kadar ısıtma opsiyonuna sahip olabilir.
- Turbo pompa opsiyonel olarak eklenebilir.
- Dijital vakum gauge opsiyonel olarak eklenebilir.
- MFC gazlarının kanal sayısı 2-6 arasında opsiyonel olarak eklenebilir.
- Plazma eklenebilir.
CVD Chemical Vapor Deposition Tanımı
CVD Chemical Vapor Deposition (Kimyasal Buhar Biriktirme) katı bir yüzeyin üzerine ince bir tabaka veya film oluşturmak için kullanılan bir malzeme üretim sürecidir. CVD işlemi, kimyasal reaksiyonların gaz fazındaki bileşenleri yüzey üzerine biriktirme işlemiyle gerçekleşir. Bu işlem sırasında gaz fazındaki bileşenler yüzeyde kimyasal reaksiyona girerek katı bir film oluştururlar.
Çalışma Prensibi
Kimyasal Buhar Biriktirme (Chemical Vapor Deposition veya CVD) katı bir yüzeyin üzerine ince bir film veya kaplama oluşturmak için kullanılan bir malzeme üretim yöntemidir. CVD işleminin temel çalışma prensibi gaz fazındaki kimyasal bileşenlerin yüzey üzerine taşınması ve burada kimyasal reaksiyonlarla katı bir film oluşturmasıdır.
Substrat Hazırlığı: CVD işlemi bir substrat olarak adlandırılan katı yüzey üzerine ince bir film oluşturmayı amaçlar. Bu substrat, temizlenir, gerektiğinde özel bir kaplama veya ön hazırlık işlemlerinden geçirilir ve işlem için hazır hale getirilir.
Reaktif Gazların Hazırlanması: İşlemin bir parçası olarak kullanılacak reaktif gazlar özel gaz tüplerinden veya kaynaklardan hazırlanır. Bu gazlar, genellikle istenen filmi oluşturacak kimyasal elementleri içerir.
Gazların Taşınması: Hazırlanan reaktif gazlar bir taşıma sistemi veya gaz iletim sistemleri aracılığıyla işlem reaktörüne taşınır. Bu reaktör, gazların substrat yüzeyi ile etkileşime girdiği yerdir.
Kimyasal Reaksiyon: Reaktif gazlar, işlem reaktöründe substrat yüzeyine ulaşır. Bu aşamada, gazlar substrat yüzeyinde kimyasal reaksiyonlara girerler. Bu reaksiyonlar sonucunda gazlar katı bir film veya kaplama oluşturacak kimyasal bileşenlere dönüşür.
Film Oluşumu: Kimyasal reaksiyonlar sırasında oluşan ürünler substrat yüzeyinde birikir ve ince bir film veya kaplama oluşturur. Bu film, işlem süresi boyunca kalınlığını artırabilir. Film kalitesi ve özellikleri, işlem koşulları ve kullanılan gazların türüne bağlı olarak değişebilir.
CVD işlemi yarıiletken cihazlar, kaplamalar, yüzey mühendisliği, optoelektronik cihazlar, nanoteknoloji ve malzeme bilimi alanlarında çeşitli uygulamalara sahiptir. İşlem koşulları ve kullanılan reaktif gazlar, sonuçta elde edilen filmin özelliklerini kontrol etmek için ayarlanabilir, bu da farklı endüstriyel ve bilimsel amaçlar için çok yönlülüğünü artırır.
CVD Kullanım Alanları
Kaplama ve Yüzey Mühendisliği: Metaller, seramikler, polimerler ve diğer malzemelerin yüzeylerine ince kaplamaların uygulanmasında kullanılır. Bu kaplamalar, aşınma direncini artırabilir, ısı yalıtımı sağlayabilir veya yüzey özelliklerini iyileştirebilir.
Optoelektronik Cihazlar: Optik lifler, güneş pilleri, LED’ler (Light Emitting Diode) ve lazer diyotları gibi optoelektronik cihazların üretiminde kullanılır. Bu cihazların performansını artırmak ve özelleştirmek için ince film kaplamalar gerekebilir.
Malzeme Bilimi ve Araştırma: CVD malzeme bilimi alanında yeni malzemelerin sentezinde ve özelliklerin incelenmesinde kullanılır. Özellikle nanoteknoloji çalışmaları için önemlidir.
Mikromekanik Sistemler (MEMS): CVD MEMS cihazlarının üretiminde kullanılır. MEMS mikroskobik ölçekte çalışan mekanik ve elektromekanik cihazları içerir ve cep telefonlarından mikrofonlar, ivme ölçerler ve mikro-optik sistemlere kadar birçok uygulama için kullanılır.
Yüzey Kaplamaları ve Kaplamalar: Takı, metal kaplama, ayna kaplama ve kesme aletlerinin kaplanması gibi birçok endüstriyel kaplama işleminde kullanılır.
Enerji Depolama ve Dönüşüm: CVD enerji depolama sistemlerinin bileşenlerinin üretiminde (örneğin; lityum iyon pil elektrotları) ve enerji dönüşüm cihazlarının geliştirilmesinde (örneğin, yakıt hücreleri) kullanılır.
Yarıiletken Optoelektronik: CVD yarıiletken optoelektronik cihazlar için önemlidir. Bu cihazlar, optik iletişim, lazerler ve optik algılama gibi uygulamalarda kullanılır.
Malzeme üretimi ve geliştirilmesi için önemli bir araçtır ve birçok farklı sektörde geniş bir uygulama yelpazesi sunar.
Opt-Cvd 1400 Cvd Fırını
CVD tüp fırını, 1400 ℃ ‘de çeşitli CVD deney reaksiyon sıcaklığı için yaygın olarak kullanılır, ayrıca vakum sinterleme, vakum koruyucu atmosfer sinterleme nano malzemelerinin hazırlanması, batarya malzemeleri hazırlama ve diğer araştırma alanları için kullanılabilir.
Opt-Cvd 1400 Cvd Fırını Özellikler
Maksimum Sıcaklık : 1400°C
Devamlı Çalışma Sıcaklığı : 1300 °C
Kontrol Paneli : Windows İşletim Sistemi Tabanlı LCD Dokunmatik Ekran
Programlanabilme : 30 adım programlanabilme özelliği
Isıtma Elementi : Fe-Cr-Al alaşımı katkılı Mo
Thermocouple : K tipi
Tüp: Quartz
Tüp Çapı : Opsiyonel olarak belirlenebilir. Standart tüpler 50mm OD x 1000 mm uzunluğa sahiptir.
Isıtma Hızı : Maksimum 20 °C / dk. Ortalama 10 °C/dk
Isıtma Bölgesi : Opsiyonel olarak 300-400-500 mm olarak tercih edilebilir. Sistemler standart olarak tek ısıtma bölgesine sahiptir ancak tercih edildiği takdirde birbirinden bağımsız çalışabilen üç ısıtma bölgeli tasarlanabilir.
Termal Kontrol Sistemi ve Hassasiyeti : PID kontrol sistemi ile ±1 °C hassasiyet
Bağlantı : 220V 50-60Hz
Sistem tüpe bağlanacak vakum flanşları (paslanmaz çelikten imal edilmiş) ve manuel vakum manometresi içerir.
MFC Teknik Özellikleri
Standart CVD sistemleri 0-200 sccm gaz akış debisi aralığında 3 bağımsız kütle akış kontrolörü içerir.
MFC’lerin sayısı 1-4 arasında tercih edilebilir ve debisi 0-500 sccm aralığına kadar opsiyonel olarak yükseltilebilir.
Kontrol Paneli : Windows işletim sistemi tabanlı LCD Dokunmatik ekran
Sisteme vakum pompası dahildir.
Opt-Cvd 1400 °C ve benzer ürünlere buradan veya buradan ulaşabilirsiniz